受中共诱惑泄芯片尖端技术 韩企6员工被诉
The Epoch Times
在高薪的诱惑下,涉嫌将韩国国家核心技术半导体芯片化学机械抛光(CMP)技术泄露给中共的6名韩国企业员工,近日被查处并移交法院审理。
韩国专利厅技术警察和检方1月26日表示,以违反《产业技术保护法》及《不正当竞争防止法》的嫌疑拘留起诉了3人,不拘留起诉了3人。他们都是韩国两家大企业和一家中坚企业前任和现任员工。
据韩国专利厅透露,他们涉嫌使用电脑和业务用手机登录公司内网,阅览机密资料,并使用私人手机拍照后泄密给中国企业。他们提供的资料,包含了很多半导体芯片抛光相关的尖端技术和商业秘密。
调查显示,主犯A某(55岁)在2018年晋升高管过程中被淘汰,于2019年6月与中国企业约定共同经营半导体芯片机械化学抛光液制造事业,之后继续在公司工作,通过聊天工具等方式管理中国机械化学抛光液生产设备的构建和事业。
接着,A某挖走在其它韩企工作的B某(52岁)、C某(42岁)和D某(35岁)3人,这三人从2019年9月开始分别跳槽到中国企业,担任副社长、组长、组员级别的职务,随后他也在2020年5月开始跳槽到中国企业,担任社长级别的职务。
经确认,他们在中国拿到的年薪是韩国内的2至3倍以上,除此之外还可获得在当地的各种优待。
韩国专利厅技术警察方面透露,在遭受损失的3家企业中,仅规模最小的企业损失额就达1千亿韩元(约合800多万美元)以上。A某工作过的公司,在泄露的资料被中国正式利用之前,A某被拘留,避免了进一步的损失。
技术被泄露的三家韩企是制造化学机械抛光液、化学机械抛光垫等半导体工程材料或制造存储器半导体的上市公司,总市值达66万亿韩元(约合53亿多美元)。
韩国专利厅产业财产保护合作局局长金时亨(Kim Si-hyung)表示,“将进一步加强技术警察的作用,带头守护国家核心技术,为了不让优秀的半导体研究人员跳槽到海外,受到技术外泄的诱惑,我们将努力提供再就业的机会,从根本上杜绝技术犯罪。”