向中共泄尖端技术 五名韩国人被起诉
The Epoch Times
近日,韩国检方起诉了涉嫌将国家核心技术“超临界半导体清洗设备技术”泄露给中共的5名韩国人。检方2021年开始调查此案,本次是根据调查采取的最新法律措施。检方估计,技术泄露或导致数亿美元的损失。
韩国检方1月16日透露,以《产业技术保护法》《不正当竞争法》等法规起诉了涉嫌将三星电子子公司Semes全球首创的“超临界半导体清洗设备技术”泄露给中共的5名韩国人。其中4名被拘留起诉,包括Semes前研究员A某和B某、泄露技术给中共的中介人C某以及Semes合作公司的代表D某,另对一名Semes合作公司的职员给予不拘留起诉。
超临界清洗设备是一种使用超临界二氧化碳(介于液体和气体的状态)干燥清洗半导体晶圆的设备。该技术可以最大限度地减少对器材的损耗,降低超微半导体的次品率,是韩国产业通商资源部指定的国家核心技术。该技术由三星电子子公司、韩国最大的半导体清洗设备制造企业Semes在全球首次研发并成功使其商用化。
Semes前研究员A某2016年离职,2019年成立了另一家公司。他涉嫌于2021年6月从Semes合作公司代表D某处获得“超临界半导体清洗设备”核心图纸,并通过中间人C某泄露给中共。
2022年9月,A某打算向中国半导体企业供货10台超临界清洁设备,与其签订了转让技术的协议,但随着韩国检察机关展开调查,设备供货没有得到落实。
A某还涉嫌与Semes前研究员B某共谋,于2021年5月至7月向自己营运的公司内部职员泄露了Semes的“单片磷酸清洗设备技术信息”,磷酸清洗设备是利用磷酸药液清洗半导体晶片的设备,Semes是继日本之后,全球第二个开发出该技术的韩国企业。
韩国检察机关从2021年10月开始正式调查Semes技术泄露事件。去年1月到5月,共起诉了包括A某等Semes前研究员在内的10人。
A某因涉嫌向中共泄露Semes的另一项技术“湿式半导体清洗设备技术”,去年5月被拘留起诉。因拘留期限届满,去年11月被保释后,一直接受不拘留审讯,但随着韩国检察机关查明他还存在其它技术泄露犯罪事实,他再次被关押。
另外,A某还涉嫌从2019年7月至2022年10月期间,贪污27亿韩元(相当于二百多万美元)公司资金。在此过程中,中介人C某涉嫌参与其中。