中共吹嘘国产光刻机 专家析真相

日前中共政府宣布中国本土企业在开发先进芯片制造设备方面取得重大进展，还宣称最新国产光刻机的分辨率达到65奈米。专家认为，相较全球领先的荷兰ASML（艾司摩尔）和日本佳能、尼康等公司，中国的EVU光刻机还存在一大段差距。美国及其盟友的长期围堵，必定削弱中共的军事与科技扩张能力。

中共工业和信息化部9月9日在其官网发布首台（套）重大技术装备推广应用指导目录，要求各地和中央企业加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同，促进重大技术装备创新发展和推广应用。

消息一曝光，中国半导体公司股票9月11日在上海和深圳交易所大幅上涨，部分股票还触及涨停板。

对于中共官媒大肆报导其国产光刻机取得重大进展。台湾经济研究院产经资料库总监刘佩真接受大纪元记者采访时表示，中共宣称可以达到的目标跟实际上的良率，可能都还有待确认。“因为光刻机的难度门槛本来就是比较高，中国（中共）可能只有触及到某些门槛就大肆宣传，希望能够借此证明其在这方面也有一些发展的契机。”

刘佩真表示，实际上的效应跟中国业者本身是否能够量产出来，她觉得这一部分还是比较有疑虑。

据日本财务省的贸易统计显示，日本出口的半导体制造设备和零组件，外加平板显示器制造设备，有一半销往中国。2024年1月至3月，相关设备对中国的出口额年增82%，达到5212亿日圆（约33.2亿美元），创下2007年以来新高纪录。

刘佩真说，今年中国从日本进口半导体设备金额大幅度成长，也佐证中国还是比较仰赖外来进口半导体的设备。中国产的光刻机相较于荷兰跟日本，与国际水准相比还差了一大段距离。

对于中共官方宣称中国产光刻机分辨率达到65奈米的新型设备，台湾开南大学国家研究中心主任陈文甲告诉大纪元，中共宣布其部分技术突破，其实它的成果仍需要经过实际生产与市场的检验。

陈文甲认为，过去30年来，台湾与韩国都未能完全突破光刻技术瓶颈，显示光刻机技术的高度复杂性和困难度。而且中共官方并未公布良率问题，也引发外界质疑其实际的竞争力。